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更新日期:2024-03-23
簡要描述:
thermocera納米CVD石墨烯/碳納米管合成器CVD法是一種穩(wěn)定的技術(shù),已經(jīng)建立了多種用途,它是未來大規(guī)模合成石墨烯和碳納米管的最現(xiàn)實(shí)的方法,因此我們在這臺機(jī)器中采用了CVD方法。 制造商Moorfield與英國國家研究所合作,多次驗(yàn)證了這種薄膜沉積實(shí)驗(yàn)裝置。
品牌 | 其他品牌 | 燃料 | 電加熱鍋爐 |
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結(jié)構(gòu)形式 | 立式 | 出口壓力 | 高壓 |
thermocera納米CVD石墨烯/碳納米管合成器
? 型號。 納米CVD-8G(用于石墨烯合成)
?型號。 納米CVD-8N(用于碳納米管)
每批僅需 1 分鐘,可輕松合成高質(zhì)量石墨烯和碳納米管
CVD法是一種穩(wěn)定的技術(shù),已經(jīng)建立了多種用途,它是未來大規(guī)模合成石墨烯和碳納米管的最現(xiàn)實(shí)的方法,因此我們在這臺機(jī)器中采用了CVD方法。 制造商Moorfield與英國國家研究所合作,多次驗(yàn)證了這種薄膜沉積實(shí)驗(yàn)裝置。 在與研究機(jī)構(gòu)的合作下,已經(jīng)驗(yàn)證了使用拉曼光譜,SEM,AFM等分析數(shù)據(jù)可以制備高質(zhì)量的石墨烯和CNT樣品。
采用冷壁/高溫樣品加熱臺(熱板),反應(yīng)快,重現(xiàn)性好。 設(shè)備小型化,加工時間縮短,可操作性強(qiáng),可創(chuàng)建并存儲30種合成配方。 除了標(biāo)準(zhǔn)系統(tǒng)配置外,還可以根據(jù)要求定制設(shè)備配置。 nanoCVD系統(tǒng)是一種實(shí)驗(yàn)裝置,盡管體積小,但具有為基礎(chǔ)研究和開發(fā)領(lǐng)域做出貢獻(xiàn)的無限潛力。
無需使用大型設(shè)備即可輕松進(jìn)行石墨烯碳納米管 (SWNT) 沉積實(shí)驗(yàn)
1批次只需30分鐘!
冷壁式高效高精度過程控制
快速升溫:室溫→1100°C約3分鐘
高性能機(jī)器,具有高精度的溫度流量控制和出色的可重復(fù)性
操作簡單! 通過 5 英寸觸摸屏進(jìn)行操作和配方管理
最多可創(chuàng)建和保存 30 個配方和 30 步合成程序。
標(biāo)配專用軟件,數(shù)據(jù)記錄為輸出PC上的CSV文件
USB電纜連接,PC端的配方創(chuàng)建→上傳到設(shè)備
1. 反應(yīng)室 | 不銹鋼SUS304泄漏檢查 |
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2. 加熱階段 | 陶瓷 |
3. 兼容的樣本量 | 20 x 40毫米 |
4. 加熱加熱器 | 高純石墨加熱器MAX1050°C |
5. 溫度控制 | 包括K型熱電偶標(biāo)準(zhǔn)(安裝在加熱臺下方) |
1. 氣體控制 | 質(zhì)量流量控制器 x 3 (Ar, H2, CH4) |
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2. 壓力控制 | 20托爾· |
3. 真空抽真空 | 包括愛德華茲旋轉(zhuǎn)泵RV3(3?/小時) |
4. 操作面板 | 前置式 5 英寸觸摸屏 (歐姆龍) |
5. 風(fēng)冷 | 通過冷卻風(fēng)扇對外殼進(jìn)行內(nèi)部冷卻 |
6. 控制系統(tǒng) | PLC自動過程控制 |
1. 納米CVD軟件 | 包括標(biāo)準(zhǔn)(安裝石墨烯的標(biāo)準(zhǔn)程序) |
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2. 界面 | USB 2.0 連接 |
3. 設(shè)置次數(shù) | 最多可以創(chuàng)建和保存 30 個配方和 30 個步驟 |
1. 工藝氣體 | 2 x 4/1 英寸世偉洛克卡套管連接,用于 Ar、H4、CH3 |
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2. 載氣 | N2 或 AR φ6mm 推鎖管連接 x 1 |
1. 過熱 | 由安裝在加熱臺上的熱電偶控制 |
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2. 外殼內(nèi)部過熱 | 從內(nèi)部溫度開關(guān) |
3. 氣壓異常 | 從質(zhì)量流量控制器 |
4. 真空減少 | 從真空傳感器 |
權(quán)力 | AC200V 單相 50/60Hz 13A |
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1. 工藝氣體壓力 | 最大 30psi 200sccm |
2. 載氣壓力 | 60-80磅/平方英寸 |
1. 尺寸 | 405毫米(寬) x 415毫米(深) x 280毫米(高) |
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2. 重量 | 約27公斤 |