訪問次數(shù):1325
更新日期:2024-03-20
簡要描述:
日本filmetrics對(duì)準(zhǔn)自動(dòng)膜厚測量系統(tǒng)F60F60自動(dòng)測繪膜厚測量系統(tǒng)是F50的高duan機(jī)型,具有缺口檢測、自動(dòng)基線功能和互鎖機(jī)制。只需將樣品放在載物臺(tái)上,然后單擊測量按鈕即可自動(dòng)執(zhí)行對(duì)齊、基線和膜厚映射。
類型 | 數(shù)字式 | 測量范圍 | 1 |
---|
日本filmetrics對(duì)準(zhǔn)自動(dòng)膜厚測量系統(tǒng)F60
F60自動(dòng)測繪膜厚測量系統(tǒng)是F50的高duan機(jī)型,具有缺口檢測、自動(dòng)基線功能和互鎖機(jī)制。
只需將樣品放在載物臺(tái)上,然后單擊測量按鈕即可自動(dòng)執(zhí)行對(duì)齊、基線和膜厚映射。
半導(dǎo)體 | 抗蝕劑、氧化膜、氮化膜、非晶/多晶硅等 |
---|
日本filmetrics對(duì)準(zhǔn)自動(dòng)膜厚測量系統(tǒng)F60
模型 | F60-t | F60-t-UV | F60-t-近紅外 | F60-t-EXR |
---|---|---|---|---|
測量波長范圍 | 380 – 1050nm | 190 – 1100nm | 950 – 1700nm | 380 – 1700nm |
膜厚測量范圍 | 20nm – 70μm | 5nm – 40μm | 100nm – 250μm | 20nm – 250μm |
準(zhǔn)確性 | ± 0.2% 薄膜厚度 | ± 0.4% 薄膜厚度 | ± 0.2% 薄膜厚度 | |
2納米 | 1納米 | 3納米 | 2納米 |
可以測量硅晶片上的氧化膜、抗蝕劑等。只需設(shè)置樣本,對(duì)齊、參考等將*自動(dòng)完成。