IMT的實驗拋光機介紹
用于安裝拋光機 IM-P2 的樣品旋轉機。
拋光嵌入樣品時,如果將 SP-L1 安裝到拋光機 IM-P2 上,就可以進行自動拋光。
由于可以改變磁頭旋轉速度,因此可以以相同的旋轉速度對支架和光盤進行拋光,防止拋光面傾斜或變成鉛筆狀,并且可以在不失去平行度的情況下進行研磨。
采用個別加載方式!通過在觀察線(通孔等)切割電子材料等時采用單獨裝載方式,可以依次取出到達目標位置的樣品。
多可以設置 3 個樣本。
可以在不失去并行性的情況下削減工作!樣品的拋光表面可以通過單獨的加載方法傾斜或呈鉛筆狀。
由于SP-L1可以改變刀柄的轉速,根據(jù)拋光推薦理論,通過以相同的轉速旋轉刀柄和磨盤,可以在不損失工件平行度的情況下進行研磨。 .
粗拋光砂紙或拋光墊
盤轉速200rpm/Holder200rpm
精磨鉆石+琢磨紙
圓盤轉速65-150rpm/Holder65-165rpm
可以半自動拋光!包括循環(huán)酒標!通過在 IM-P2 上安裝 SP-L1,半自動拋光成為可能。
標配帶滴量調(diào)整功能和開閉閥的潤滑油滴頭裝置“Lubricator"。
旋轉速度 | 0-200rpm可變型(常用50/60Hz) |
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樣本數(shù) | 1到3自由選擇 |
加壓 | 10-40N(彈簧式單獨負載)一個樣品 |
樣品架 | Φ25mm, 30mm, 40mm x 3 * 定制尺寸支架和特殊夾具需要咨詢 * 支架單獨出售 |
潤滑器 | 標準附件(流量模擬調(diào)整型) |
電源 | 單相100V或單相200-220V *插入IM-P2插座75W電機 |
尺寸 | W460 x D655(至排水管)x H550(頭部抬起時為685)mm, 50kg * SP-L1安裝在IM-P2上 時的數(shù)值 |
磁盤大小 | 拋光盤:Φ223mm 或 Φ200mm AL 琢磨盤:Φ200mm 磁面盤:Φ200mm * Φ250mm 盤也可設置 * 盤單獨出售 |
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旋轉速度 | 50-400rpm可變型(常用50/60Hz) |
給排水功能 | 通過供水旋塞打開和關閉(帶供水/排水軟管) |
電源 | 單相100V或單相200-220V(50/60Hz) 200W減速電機 |
尺寸/重量 | W390 x D655 (至排水管) x H195mm, 31kg |