露點儀TK-100在半導體芯片生產(chǎn)中的應用
測量氣體中的水蒸氣露點溫度的儀器叫做露點儀。露點儀因所使用的冷卻方法和檢測控制方法不同,可以分為多種類型。
露點儀在半導體芯片的生產(chǎn)工藝中起重要監(jiān)測作用。半導體芯片的生產(chǎn)是在凈化間內(nèi)進行的。凈化間規(guī)范往往包括相對濕度(RH)這一項,一年內(nèi)控制點的范圍從35%到65%,精度2%(70℃以下)濕度超標會影響產(chǎn)品質量及生產(chǎn)計劃的完成。
在半導體芯片生產(chǎn)區(qū),濕度不穩(wěn)定,會出現(xiàn)很多問題。最典型的問題是烘干期延長,整個處理過程變得難以控制。當相對濕度高于35%時,元件易被腐蝕。此外,將顯影液噴在芯片表面時,顯影液迅速揮發(fā),使芯片表面溫度下降,致使水汽凝結在芯片表面。凝結水不但會影響顯影特性,還會吸收到半導體內(nèi),這將導致膨化及其它質量缺陷,還必須增加一些不必要的工藝控制。
凈化間常用的除濕方法有兩種。一種是調節(jié)空氣,另一種是除濕劑。采用第一種方法時,將與凈化間氣流接觸的表面的溫度降至氣流露點以下。除去析出的冷凝水,將除濕后的空氣加熱至規(guī)定溫度后,重新送回凈化間。標準冷凍機可保證露點達到+4℃;采用第二種方法時,氣流通過吸濕劑,吸濕劑直接吸收氣流中的水分,然后將除濕后的空氣送回凈化間。吸濕劑除濕法可使露點低于-18℃。
TK-100 在線露點儀的傳感器,采用的是 靜電容量式原理。
當水分子被夾在兩個導電層之間的多孔絕緣層 吸收時,上導電層與下導電層之間的電容將會 產(chǎn)生變化。
該電容量通過傳感器內(nèi)部電路被線性的轉換為露點 的模擬信號。 吸濕水分的絕緣層厚度為 0.5 μm 以下,上層導電金屬層厚度為 0.1 μm 以下,即使少量 水分的吸附也可迅速反應。
擁有如此薄度的同時,傳感器仍保持優(yōu)秀的強韌及耐久性。
高度可信性的校準/可追溯性
TK-100 在線露點儀,在嚴格的溫濕度管理下,采用美國 NIST 和具有可追溯性的基準露點儀對各種測量儀器進行校準。
此外,本公司在-70 ℃ 至-10 ℃的低露點范圍領域,被認定為 JCSS※ 校準企業(yè)。因此,在傳統(tǒng)的 NIST 可追溯性校準的基礎上, 可按照 ISO/IEC17025 進行校準。